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下面介紹常見(jiàn)的標(biāo)識(shí)牌的工藝，標(biāo)牌制作的方式很多，采用不同制作方式的標(biāo)識(shí)工藝都各不相同。

C、用高純水沖洗硅片，將殘留雜質(zhì)沖凈。

D、用高純水沖洗將雜質(zhì)和殘留硅片上的清洗水沖盡。

E、脫水：用紗網(wǎng)，每次放硅片5-6千克到脫水機(jī)中脫水2分鐘。

F、沖洗：將硅片放入沖洗槽中沖洗并攪拌。

G、烘干：將硅片放入花籃中，堆積厚度小于２厘米，并將硅片用塑料棒劃通氣縫。烘箱溫度調(diào)至115℃，烘干2～4小時(shí)。

3、硅片浸泡作業(yè)：

⑴、濕法蝕刻工藝：將硅片倒入浸泡池中，體積不超過(guò)浸泡池的2/3。在浸泡池中倒入腐蝕溶液。腐蝕溶液為氫氟酸49-59%的工業(yè)純刻蝕溶液，浸泡12小時(shí)后，放出酸液，將硅片沖洗干凈。

⑵、去除金屬沾污：配制王水溶液，根據(jù)氣溫變化稀釋至30-50%的濃度，浸泡12小時(shí)后，放出酸液，將硅片沖洗干凈。

⑶、二次濕法蝕刻工藝：將硅片倒入浸泡池中，體積不超過(guò)浸泡池的2/3。在浸泡池中倒入腐蝕溶液。腐蝕溶液配比為HF：NH4F=（6-10）工業(yè)氫氟酸，浸泡：112小時(shí)后，放出酸液，將硅片沖洗干凈。

3)標(biāo)識(shí)牌制作處理工藝-氧化

一、表面預(yù)處理無(wú)論采用何種方法加工的鋁材及制品，表面上都會(huì)不同程度地存在著污垢和缺陷，如灰塵、金屬氧化物（天然的或高溫下形成的氧化鋁薄膜）、殘留油污、瀝青標(biāo)志、人工搬運(yùn)手印（主要成分是脂肪酸和含氮的化合物）、焊接熔劑以及腐蝕鹽類(lèi)、金屬毛刺、輕微的劃擦傷等。因此在氧化處理之前，用化學(xué)和物理的方法對(duì)制品表面進(jìn)行必要的清洗，使其裸露純凈的金屬基體，以利氧化著色順利進(jìn)行，從而獲得與基體結(jié)合牢固、色澤和厚度都滿足要求且具有最佳耐蝕、耐磨、耐侯等良好性能的人工膜。